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  • 檢索結果:共2筆資料 檢索策略: "plasma".ekeyword (精準) and ckeyword.raw="氧化鋁"


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    大型高純度氧化鋁物件製程與其在NF3/Ar電漿蝕刻行為
    • 材料科學與工程系 /97/ 博士
    • 研究生: 林欽山 指導教授: 林舜天 洪儒生
    • 12吋半導體製程中之化學氣相沉積設備反應室內,所需之精密氧化鋁陶瓷,必須具備有高純度、能抵抗電漿環境中的侵蝕性氣體與300mm以上大尺寸物件的特性。所以,胚體成型的技術是一項重要課題,更需要鑽石工具…
    • 點閱:361下載:3
    • 全文公開日期 2013/12/23 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)

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    以原子層沉積法成長氧化鋁薄膜作為矽晶片鈍化層之研究
    • 化學工程系 /101/ 碩士
    • 研究生: 廖國樺 指導教授: 洪儒生
    • 在矽晶太陽電池中晶片表面鈍化及抗光反射為重要的關鍵技術。本研究以原子層沉積法沉積氧化鋁薄膜於矽晶片表面上作為鈍化之使用。首先以電漿輔助原子層沉積系統及熱原子層沉積系統製備氧化鋁薄膜,研究重點為探討氧…
    • 點閱:241下載:1
    • 全文公開日期 2018/08/05 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)
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